应用注:添加剂量化商业CMP样本

化学机械抛光(CMP)或整平泥浆用于半导体行业创建一个特定的表面放置在硅片上建设的各种电子产品。保持泥浆的质量,许多使用化学添加剂。分析方法需要确保CMP浆料的质量,和大多数方法需要复杂的样品制备和多种技术实现的结果。弧高效液相色谱与PDA和ACQUITY QDa探测器是一个简单和常规分析选项。

本应用笔记提供了一个实践表明,十五分钟常规方法分析已知的CMP泥浆添加剂以最小的样本准备。现在下载到更多的了解…

• 使用电弧高效液相色谱系统与常规分离方法,能够在系统更新方法量化的添加剂使用高效液相色谱法和光电二极管阵列和质量检测UHPLC没有后续
• 健壮的XBridge本·列的能力低,高压应用程序在不影响列床
• 获得更多的信心在你的化验结果与ACQUITY QDa质量检测
• 使用授权3色谱数据系统(CDS)数据分析的PDA、QDa,所有水域弧高效液相色谱检测器兼容